Массивы микролинз обеспечивают высокоточные лучи и высокую степень интеграции
Массивы линз - это оптические компоненты, состоящие из множества микролинз, расположенных по правильной схеме, предназначенные для гомогенизации пучка, формирования луча и оптической интеграции. Их компактная структура и точная геометрия обеспечивают равномерное распределение света и эффективное взаимодействие в передовых фотонных системах.
Особенность:
- Несколько микролинз для гомогенизации луча и равномерного распределения интенсивности
- Высокоточная геометрия обеспечивает стабильное формирование луча и низкий уровень искажений
- Компактная конструкция идеально подходит для интеграции в миниатюрные оптические модули
- Превосходная точность и полировка поверхности для надежной работы оптики
- Нестандартные размеры, модели линз и покрытия доступны для различных применений
Применение: Гомогенизация лазерного луча, оптическая связь, проекционные системы, LiDAR, датчики, медицинская визуализация и фотонные устройства, требующие компактного и эффективного управления светом.
Поделиться с:
Массивы линз состоят из множества одинаковых или разных линз, расположенных в таких форматах, как линейные массивы или двумерные матрицы (квадратные, шестиугольные). Каждая сублинза может выполнять отдельные функции, такие как фокусировка, коллимация или рассеивание света, обеспечивая одновременную многолучевую обработку.
Структурные типы:
- Линейные линзовые массивы: Одномерная цилиндрическая линза, идеально подходящая для линейного сканирования и щелевой подсветки.
- Двумерные массивы линз: Матричная компоновка для полнопольного формирования света, гомогенизации пучка и визуализации.
- Асферические решетки: Коррекция оптических аберраций и повышение разрешения в системах формирования изображений.
- Настраиваемые линзовые массивы: Фокусное расстояние с электрическим управлением для адаптивной оптики и динамического формирования луча.
Материалы и производство:
- Материалы: Оптическое стекло (BK7, плавленый кварц), полимеры (PMMA, PC), кремний (для ИК-излучения), гибкие подложки (PDMS) для носимых и изогнутых поверхностей.
- Процессы: Фотолитографическая доводка (для массивов микролинз), литье под давлением (массовое производство), лазерная микрофабрикация (на заказ, высокая точность).
Основные оптические характеристики:
- Параллельная обработка лучей: Каждая сублинза модулирует отдельную часть светового поля.
- Равномерное распределение света: Преобразует гауссовы лучи в лучи с плоской вершиной для равномерного распределения энергии.
- Расширение поля зрения: Улучшает широкоугольное изображение и захват глубины в системах типа камер светового поля.
- Миниатюризация: Массивы микролинз (MLA) обеспечивают интеграцию на кристалле в мобильные устройства и компактные оптические модули.
Области применения:
- Изображения и фотография: Камеры светового поля, конфокальная микроскопия, многоракурсные 3D-дисплеи.
- Лазерная обработка и литография: Формирование луча для лазерной гравировки, резки пластин и равномерного освещения в фотолитографии.
- Оптическая связь и зондирование: Оптоволоконная связь, массивы VCSEL/PD, сканирование LiDAR, распределенные оптоволоконные датчики.
- Бытовая электроника: Модули камер для смартфонов, оптика для VR/AR, оптическое распознавание отпечатков пальцев.
- Научные исследования и астрономия: Солнечные телескопы, квантовая оптика и высокопроизводительные оптические эксперименты.
| Параметр | Типовой ассортимент / опции |
| Конфигурация массива | Линейные, двумерные матрицы (квадратные/шестиугольные), пользовательские макеты |
| Диаметр сублинзы | Микролинза: 10-500 мкм; Макрообъектив: 0,1-10 мм |
| Фокусное расстояние (f) | Фиксированные или переменные (например, от 0,5 мм до 50 мм) |
| Форма сублинзы | Сферические, асферические, цилиндрические, свободной формы |
| Материалы | BK7, плавленый кварц, ПММА, ПК, кремний, ПДМС |
| Варианты покрытий | AR, HR, IR, UV, Broadband |
| Метод изготовления | Фотолитография, литье под давлением, лазерная микрофабрикация |
| Диапазон длин волн | УФ (193 нм) - ИК (10,6 мкм), зависит от материала |
| Шероховатость поверхности | <5 нм для объективов класса для обработки изображений |
| Порог повреждения | >10 Дж/см² (для применения в лазерной обработке) |
| Коэффициент заполнения | >90% (для гомогенизации луча и равномерного освещения) |
| Настройка | Фокусное расстояние, шаг, расположение, размер/материал подложки |
